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新聞動態(tài)
罐體拋光機(jī)拋光精度，即拋光性能
平面拋光機(jī)的拋光軌跡根據(jù)加工工件及加工盤的不同相對運(yùn)動，有定偏心研磨軌跡、不定偏心研磨軌跡、直線式研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡，行星式研磨軌跡等等。
定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨拋光機(jī)就是這種。
不定偏心式研磨軌跡，其均勻性明顯好于定偏心式軌跡，有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。量產(chǎn)型鏡面拋光機(jī)的研磨拋光軌跡就是這種類型。
直線式研磨使用的不是拋光盤，而是具有柔性的砂帶，工件做單純的回轉(zhuǎn)運(yùn)動。平面研磨拋光機(jī)自修整機(jī)構(gòu)的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。此種運(yùn)動形式簡單，如將研磨帶加長可以形成批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。
搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢，是工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象。
行星式平面研磨運(yùn)動軌跡最常見用于雙面研磨機(jī)，當(dāng)改變研磨盤轉(zhuǎn)速和太陽轉(zhuǎn)速之比時(shí)，工作效率及材料去除率會發(fā)生變化。
高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。
1.2 化學(xué)拋光 電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步：
機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，可使用轉(zhuǎn)臺等輔助工具，表面質(zhì)量 要求高的可采用超精研磨拋光的方法。超精研拋是采用行星式拋光機(jī)，在含有磨料的研拋液中，作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動。利用該技術(shù)可以達(dá)到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。
