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罐體拋光機光學(xué)加工拋光工藝的兩個拋光階段
添加時間:2017-07-08
 
光學(xué)加工是一種光學(xué)零件的罐體拋光機拋光工藝,罐體拋光機它的目的就是除去精磨后的凹凸及裂紋層,例表面透明光滑,達到規(guī)定的表面疵病等級B;精確的修正表面的幾何形狀,達到規(guī)定的面形精度N。
 
        精磨表面結(jié)構(gòu)對拋光過程有著一定程度的影響,這種影響就在凹凸層和除去裂紋層中表現(xiàn)。
 
       1、凹凸層:拋光模和玻璃的凹凸層頂峰接觸,壓強很大,而凹谷為拋光液進入整個表面又提供子良好的條件,因此拋光十分迅速。隨著拋光過程的繼續(xù),接觸面積增大,壓強減小,拋光液的附著能力降低。使拋光過程減慢。
 
       2、拋光而達到裂紋層,玻璃表面同拋光模表面全部接觸,拋光過程趨于穩(wěn)定緩慢,而拋光模開始鈍化,拋光繼續(xù),鈍化加劇,拋光效率進一步降低,鈍化程度隨過程的持續(xù)時間而定,而持續(xù)時間直接決定于裂紋層的深度。
 
       光學(xué)加工的拋光工藝會由多種因素受到影響,如拋光劑,拋光液的供劑量,拋光液的濃度,酸值度和溫度等各種因素的影響。還有更多有光學(xué)加工的解說,小編還會為大家分享,敬請關(guān)注!
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